将模式化的ITO基板放入机架中。
将少量Hellmanex与沸水混合。
超声处理10分钟。
然后将基板在去离子水中超声处理，然后使用IPA处理，每次10分钟。
完成清洁后，用氮气枪干燥基板。
清洁后再用UV臭氧处理15分钟将改善溶液润湿性。
清洁处理之后的基板现在可以用来加载空穴传输层 - 在这里我们使用PEDOT：PSS。PEDOT：PSS首先应使用亲水过滤器过滤。
可以将PEDOT：PSS旋涂到ITO基板上以形成大约30nm的层。然后将膜在约110℃下韧化退火处理。
为了暴露ITO条带，用棉签条沾用合适的溶剂如甲醇擦拭HTL。
存放基材，然后将它们转移到手套箱中。
现在可以将活性层旋涂到PEDOT：PSS上。
此时，可以通过改变所使用的溶液配方来制造OPV或OLED。我们使用的是非富勒烯基混合物。
旋涂后，应对活性层进行韧化退火处理。
可以通过用合适的溶剂（例如氯苯）擦拭来暴露ITO。
电子传输层可以通过旋涂或真空蒸发沉积加载。
擦拭后，我们现在通过金属真空蒸发沉积加载阴极。
使用用Ossila蒸发掩模遮掩器件（活动层面朝下）。
将带有面罩的器件转移到热蒸发器中并进行真空蒸发处理。
蒸发后，可以封装基材以提高其稳定性。
为了封装，添加一滴Ossila封装环氧树脂，顶部用玻璃载玻片封装。
然后应在紫外灯下固化。在365nm固化需要15分钟。
您的设备现已完成并可以进行测试。
这可以使用Ossila的I-V太阳能电池测试系统完成。该产品有两种型号：手动和自动。
器件活性面朝下放置，并盖上照明掩模。
然后我们打开太阳能模拟器。
可以使用免费的I-V曲线软件设置测量值，该软件可自动计算太阳能电池的特性。
JV扫描的进程可以实时观察。
完成后，测试结果将显示在右侧。